SEMPrep2

Les gravures ioniques sont utilisées d'une part pour la production de d'autre part, ils sont utilisés pour polir les surfaces – par exemple pour l'EBSD – d'autre part, comme outil permettant de couper en profondeur dans un échantillon et d'ouvrir une section transversale. Un microscope optique permet de positionner l'échantillon et de définir la zone à traiter. Les systèmes de Technoorg possèdent deux émetteurs d'ions argon à haute et basse énergie: alors que les énergies élevées enlèvent rapidement du matériau, la plage d'énergie basse convient au polissage d'une surface.

Les taux d'enlèvement de matière sur le silicium sont de l'ordre de 150 µm par heure. Avec la source d'ions ultra haute, il est possible d'atteindre des taux d'enlèvement de matière allant jusqu'à 550 µm/h.

Nous nous ferons un plaisir de vous présenter le système lors d'une ou nous pouvons aussi vous montrer notre appareil de démonstration dans le laboratoire, où nous avons la possibilité de prendre des images MEB sur place avec un appareil à émission de champ.